关于光学发射光谱的应用研究报告-摘要 光学发射光谱(OES)已被证明是一种有价值的工具在开发和生产最先进的半导体器件。应用于等离子体蚀刻所需的各种材料重点讨论了集成电路的制造。关于刻蚀端点分析， OES技术在监控中的应用。 介绍 把复杂的图案转移到表面上的过程一种硅片，以生产集成电路(IC) 。这对化学家和工程师都是一个巨大的挑战。 它要求形成精确的掩模，以及高度控制的蚀刻技术。光发射是这两个过程步骤的固有部分; 作为一个 曝光源用于光刻的前一种，并作为副产
摘要
光学发射光谱(OES)已被证明是一种有价值的工具在开发和生产最先进的半导体器件。应用于等离子体蚀刻所需的各种材料重点讨论了集成电路的制造。关于刻蚀端点分析， OES技术在监控中的应用。
介绍
把复杂的图案转移到表面上的过程一种硅片，以生产集成电路(IC) 。这对化学家和工程师都是一个巨大的挑战。 它要求形成精确的掩模，以及高度控制的蚀刻技术。光发射是这两个过程步骤的固有部分; 作为一个 曝光源用于光刻的前一种，并作为副产物射频(RF)激励在后者。 本文将讨论通过光学发射光谱(OES)表征这种发射，使用这种技术来监视和控制某些方面的半导体制造过程。
本文还讲述了监控等离子体条件，腐蚀端点检测，光电现象等问题。
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审核编辑：符乾江
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